Sadauskas, M.; Trusovas, R.; Kvietkauskas, E.; Vrubliauskaitė, V.; Stankevičienė, I.; Jagminienė, A.; Murauskas, T.; Balkauskas, D.; Belosludtsev, A.; Ratautas, K.
Advancing Nanoscale Copper Deposition Through Ultrafast-Laser-Activated Surface Chemistry. Nanomaterials 2025, 15, 830.
https://doi.org/10.3390/nano15110830
AMA Style
Sadauskas M, Trusovas R, Kvietkauskas E, Vrubliauskaitė V, Stankevičienė I, Jagminienė A, Murauskas T, Balkauskas D, Belosludtsev A, Ratautas K.
Advancing Nanoscale Copper Deposition Through Ultrafast-Laser-Activated Surface Chemistry. Nanomaterials. 2025; 15(11):830.
https://doi.org/10.3390/nano15110830
Chicago/Turabian Style
Sadauskas, Modestas, Romualdas Trusovas, Evaldas Kvietkauskas, Viktorija Vrubliauskaitė, Ina Stankevičienė, Aldona Jagminienė, Tomas Murauskas, Dainius Balkauskas, Alexandr Belosludtsev, and Karolis Ratautas.
2025. "Advancing Nanoscale Copper Deposition Through Ultrafast-Laser-Activated Surface Chemistry" Nanomaterials 15, no. 11: 830.
https://doi.org/10.3390/nano15110830
APA Style
Sadauskas, M., Trusovas, R., Kvietkauskas, E., Vrubliauskaitė, V., Stankevičienė, I., Jagminienė, A., Murauskas, T., Balkauskas, D., Belosludtsev, A., & Ratautas, K.
(2025). Advancing Nanoscale Copper Deposition Through Ultrafast-Laser-Activated Surface Chemistry. Nanomaterials, 15(11), 830.
https://doi.org/10.3390/nano15110830
